科学家发明了一种新型聚合物薄膜，具有优异的电磁屏蔽能力，也易于制造，非常符合当下电子设备大发展时代，对于防止相互干扰需求。
研究于2月12日发表在《先进材料》上，标题为“Electrically Insulating Flexible Films with Quasi‐1D van der Waals Fillers as Efficient Electromagnetic Shields in the GHz and Sub‐THz Frequency Bands”(准一维范德华填料作为GHz和亚太赫兹频段有效电磁屏蔽的电绝缘柔性薄膜)，通讯作者为加利福尼亚大学电子与计算机工程系纳米器件实验室和声子优化工程材料中心的Alexander A. Balandin。
新材料使用了不寻常的填料——化学剥离的准一维范德华材料束。这种复合材料在千兆赫兹和亚太赫兹频率范围内表现出优异的电磁干扰屏蔽能力，同时还能保持电绝缘，这对当前和未来的通信技术非常重要。他们通过处理过渡金属三卤代化合物(TaSe3)合成了这种独特的复合材料。
在论文中，研究小组报告说，他们使用了一种可以大规模生产这些一维材料的化学工艺。
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