中国科学院上海光学精密机械研究所发文表示，该所在基于低温等离子体增强原子层沉积的紫外减反射激光薄膜研究中取得新进展，初步实现了紫外减反射薄膜的损伤阈值提升。
相关研究成果已发表在Journal of Alloys and Compounds。
据了解，“研究人员采用低温等离子体增强原子层沉积技术，系统研究了SiO2和HfO2薄膜的激光相关性能。”“设计并采用低温等离子体增强原子层沉积技术制备了一种应用于355 nm激光的双层结构HfO2/SiO2减反射薄膜。该减反射薄膜在355nm的实测反射率低于0.2%，激光损伤阈值(24.4 J/cm2，脉宽7.8ns)高于电子束沉积减反膜薄膜(20.6 J/cm2，脉宽7.8ns)。”
该项成果有望为紫外减反射薄膜的抗激光损伤性能提升提供新思路，丰富紫外减反射薄膜的制备技术。
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